作者: 李保力 日期:2025-01-05 02:41:23 点击数:
IC的基本知识(1) IC原意:Integrated Circuit(集成电路) IC俗称:半导体元器件产品 主要成分:硅(Si),锗(Ge),砷化镓(GaAs)等 半导体物质 半导体物质:是导电性能介于导体和绝缘 体之间的一类物质,如硅 (Si),锗(Ge)。 基本单元:二,三级管电路单元 1 . IC的分类 (一)功能结构分类: 1,模拟集成电路(电源IC,运放,A/D等) 2,数字集成电路(如MCU,DSP等) (二)导电类型分类: 1,双极型集成电路(bipolar工艺复杂,功耗大) 2,单极型集成电路(COMS电路简单,功耗小) (三)通用和专用IC 2 . IC的制造流程 1,晶圆处理工序(Wafer Fabrication) 2,晶圆针测工序(Wafer Probe) 3,构装工序(Packaging) 4,测试工序(Initial Test and Final Test)等 其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前段(Front End)工序,而构装工序、测试工序为后段(Back End)工序。 3 . IC制造过程图 图如下 Front-end Back-end Die bank Bins Final Goods Inventory Wafer Fab Probe Assembly Raw Test Final Test 4 . IC的制造过程 1,晶圆处理制程:在晶圆上制作PG电子充值方式电路和电子组件(如晶体管,电容体,逻辑电路等) 2,晶圆针测制程:晶粒(Die)经过针测(Probe)仪器测试其电气特性 3,IC构装制程:利用塑料或陶瓷包装晶粒与配线,测试制程:可分为初步测试和最终测试,划分不同的IC等级,保证产品质量; 5 . IC的设计方法 1,正向设计和反向设计 2,自顶向下(Top-down)和自底向上设计(Bottom-up) 6 . 正向设计和反向设计 7 . 自顶向下和自底向上设计 8 . IC的设计流程 1,设计输入:电路图和硬件描述PG电子充值方式语言 2,逻辑综合:处理硬件描述语言,产生电路网表 3,系统划分:将电路分成大小合适的块 4,功能仿线,布图规划:芯片上安排各宏模块的位置 6:布局:安排宏模块中标准单元的位置 7:布线:宏模块与单元之间的连接 8:寄生参数提取:提取连线:版图后仿真:检查考虑连线 . 个人观点供参考,欢迎讨论!
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